KT—Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压，电流反馈，样品台旋转，样品高度调节及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。

小型蒸镀仪郑州科探仪器技术资料

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

加热方式

数字式功率调整器

镀膜功能

0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

功率

≤1200W

输出电压电流

电压≤12V 电流≤120A

真空度

机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm

样品台

可旋转φ62 （可安装φ50基底）

样品台转速

8转/分钟

样品蒸发源调节距离

70-140mm

蒸发温度调节

≤1800℃

支持蒸发坩埚类型

钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳

预留真空接口

KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口

可选配扩展

机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa）

数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）

分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）