氧化硅抛光液氧化硅抛光液(CMP抛光液)是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。
在硬化地坪施工进程中,究竟要不要用抛光液进行抛光处理呢?在答复这个问题之前,咱们先要了解什么是地坪抛光液,地坪抛光液能起到什么作用,才能对这个硬化地坪需不需要抛光液的问题进行客观的剖析。地坪抛光液是一种用来进步硬化地坪亮度的产品,也叫做地坪光亮剂、地坪亮光剂、地坪增亮剂、地坪抛光机等等,出产的浓缩型浸透地坪光亮剂,是采用了源自德国的特种高分子材料,具有抗磨损、防刮伤、防刻划的功用。
氧化铝和碳化硅抛光液 是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。 主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。
抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,抛光液具有良好的去油污,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品显露出真实的金属光泽。性能稳定、,对环境无污染等优点。包括棘轮扳手、开口扳手,批咀、套筒扳手,六角扳手,螺丝刀等,铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后,再使用抛光剂配合振动研磨光饰机,滚桶式研磨光式机进行抛光。