多晶金刚石抛光液多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。

氧化铈抛光液

氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。

适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。

水磨石抛光液其以造价低廉，形状颜色可控，施工方便等优点，广泛应用于公共场所及生产车间、仓库厂房、教室等，然而，由于目前施工技术沿用旧式方法的粗糙打磨，加上水磨石粗磨后毛细孔的粗大，易藏污纳垢，易被磨损和各种水性、油性污渍渗透，导致表面风化剥离，起尘，出现细小孔洞和污染。就算定期清洗上蜡也不能根本上解决问题。

氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。

广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。