多晶金刚石抛光液多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。

氧化铈抛光液

氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。

适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。

大理石防护晶面抛光液 大理石加光加硬剂是针对大理石表面需追求超高亮度而设计，具有的渗透性和扩散力，能渗入到大理石基料的分子间隙。加光剂內含溶剂性硬蜡，以及对大理石没有腐蚀的微酸性，拥有去污、加硬、加光、防滑四大功能，经打磨产生化学反应，可迅速提升大理石地面的光泽度，令石材保持光洁如新的镜面效果。

氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。

广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。